EVG7200大面积UV纳米压印系统将纳米压印光刻(NIL)扩展到第3代(550毫米x 650毫米)面板大小的基片，并借助EVG的专利和容量验证的SmartNIL技术。
在显示器、生物技术、光子元件、线栅偏振器等不能缩小尺寸的应用中，通过增加图案面积来提高衬底的利用效率是至关重要的。
无网格已被证实是最经济的方法，便于在大范围内制作纳米图案，因为它不受光学系统的限制，可以为最小的结构提供最理想的图案保真度。
SmartNIL使用非常强大和可控的工具过程，提供了卓越的保形压痕结果，低至40 nm*。EVG具有特殊的和经过验证的设备能力，如无与伦比的用户2020欧洲杯下注官网友好性，以及高水平的工艺专业知识，因此，它通过将纳米压印提升到一个全新的水平来满足行业需求。
＊解析基于过程和模板
特性
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专有SmartNIL®技术提供了无与伦比的大面积共形印记
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适用于所有市售印记材料欧洲杯足球竞彩
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经过验证的技术，具有良好的一致性和复制保真度
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强大可准确的加工
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多用途聚合物工作冲压技术，延长主寿命和相当大的成本节约
技术数据
| ． |
． |
| 晶圆直径(基片尺寸) |
直径200毫米至Gen3 (550 x 650毫米) |
| 决议 |
40 nm - 10 μ m(分辨率取决于模板和工艺) |
| 支持过程 |
SmartNIL® |
| 暴露源 |
高功率窄带(>400 mW/cm²) |
| 对齐 |
可选配光学对准度:≤±15µm |
| 自动分离 |
支持 |
迷你环境和
气候控制 |
可选 |
| 印章制作工作 |
支持 |
来源:电动汽车集团