EVG770是用于阶跃和重复纳米压印光刻的灵活平台，用于有效母料制造或在基板上的复杂结构的直接图案化。该方法甚至可以在巨大区域的巨大区域上均匀复制来自小模具的小模具50 mm，底板尺寸高达300 mm。
与直接写入或钻石转动技术一起，常常利用阶梯和重复印记，以有效地制造晶圆级光学制造或EVG的Smartnil工艺所需的大师。
EVG770的主要特性是精确的校准能力、完整的过程控制和满足广泛设备和应用需求的灵活性。
特征
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用于晶片级光学器件的微透镜的有效母镜片到Smartnil的纳米结构®
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现场成像可在脱模，压印和点胶
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轻松实现各种大师
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现场力量控制可用于脱模和印记
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可选择可选的自动录像带到盒式磁带处理
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可用抗蚀剂分配模式可用
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配有可选的光学楔形误差补偿
技术数据
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薄片直径
（衬底尺寸） |
100多达300毫米 |
| 解析度 |
≤50nm（取决于模板和过程的分辨率） |
| 支持的过程 |
柔软的uv-nil |
| 曝光来源 |
大功率LED（I-LINE）> 100 MW /cm² |
| 结盟 |
实时覆盖对准的顶侧显微镜≤±500nm
细致≤±300nm |
第一次打印模具死亡
放置准确性 |
≤1μm |
| 主动压印区域 |
高达50 x 50毫米 |
| 自动分离 |
支持的 |
| 预处理 |
涂层：液滴分配（可选） |
来源：ev组