EVG®6200ba:自动键合对齐系统,用于晶片对晶片对齐

evg6200ba键合对齐系统提供了最高的灵活性、准确性、模块化升级能力和用户友好性,同时能够胜任几个高吞吐量的生产设置。EVG键合定位仪的准确性适应了MEMS生产和3D集成应用等发展领域中最具挑战性的校准过程。

特性

  • 完全机动的高分辨率底侧显微镜
  • 适用于所有EVG 200mm粘结系统
  • 支持双或三重晶圆叠片的键合对齐,范围可达200毫米晶圆
  • 手动或电动对准阶段可提供自动对准选项
  • 有窗户®的用户界面
  • 选项
    • 自动对齐
    • 红外对准提供内部衬底键对准
    • NanoAlign®改进过程能力的包
    • 升级掩模对准器的可能性
    • 系统机架

技术数据

一般系统
配置
桌面
系统架:可选
被动隔振:
对齐方法 背面排列:±2µm3 σ
透明取向:±1µm 3 σ
红外定位:选项
调整阶段 微米精度:手动
可选:机动微米
楔形补偿:自动化
衬底/晶片
参数
尺寸:2”、3”、100mm、150mm、200mm
厚度:0,1 - 10mm
Max。堆叠高度:10mm
自动对齐 可选
处理系统 标准:3个盒式磁带台
可选:多达5个站


来源:电动汽车集团

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