用TALYS ADP300分析双通道湿过程

TALYS ADP300是一种负担得起的高性能湿浴监测分析仪,可满足半导体行业的需求。

该双通道分析系统是一种最新的分析仪,适用于湿蚀刻,清洁或光孔(PR)去除过程的批次类型,实时或单滤器工具监测。

TALYS ADP300系列是经过验证且著名的TALYS ASP300单渠道分析系统的演变,但具有增强的关键性能和两次同时测量。

它为FPD,半导体和太阳能电池制造提供了出色的性能,以实现严格的现代预算的理想价格。

这款负担得起的高性能湿浴监视器可以通过独特的非接触采样系统设计在过程温度下进行实时测量,从而可以实时给药和托架终端警报,而无需延迟样品调理。

功能和好处

  • 同时测量两个抽样点
  • 一个用于测量几种化学作用的单个分析仪
  • 所有权成本最低
  • 低维护成本光源只需要每五年更换一次
  • 最小的足迹
  • 独特的抽样配件(Clippir+)允许无侵入的测量和系统安装,而无需修改或停止工具

灵活性和性能

该可靠的分析仪可提供标准的RCA清洁套件浴室浴室预测配置。它的灵活性允许修改浴缸配置,以监测FPD,太阳能电池和半导体制造的化学反应。

TALYS性能使设备工程师和操作员可以通过实时浴室2020欧洲杯下注官网组件预测最大程度地减少化学使用和游览活动。

数据

获得专利的Clippir+

ABB样品接口是一个独特的单元格,没有润湿零件,易于安装。只需将其夹在现有的1˝,3⁄4˝,1⁄2˝或3⁄8˝PFA管上即可。剪裁是由特氟龙制成的并通过Teflon耦合到Talys受保护的光纤电缆。浴缸无法污​​染。

ABB的Clippir探针有助于简化安装,因为不需要关闭工具,现有的管道不需要任何修改,而无润湿的零件采样避免了污染的风险。与滴定器相反,没有常规的分析仪“零”程序或填充试剂容器。

用TALYS ADP300分析双通道湿过程

图片来源:ABB测量和分析

两个样品的多个化学分配

TALYS ADP300分析仪可以同时快速测量两个样品点的多个化学分配。该工具通过Modbus TCP输出的自动浴室选择可以实时选择所需的浴室化学预测常规。

在监视工具上的两个或多个浴室化学分配的同时,不需要更改硬件,手动干预或多个分析仪,从而在Fab上节省了大量成本。理想的结果将是一个分析仪,测量了SC1,SC2,BHF,BOE,DHF和ST-250的输送管,而无需手动干预,所有分析仪都由工具PC控制。

监视再循环浴

用TALYS ADP300分析双通道湿过程

图片来源:ABB测量和分析

如果技术更新需要在同一生产工具上进行新的化学反应,则可以通过电子邮件在FAB中升级TALYS。

直立化学用法监视

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图片来源:ABB测量和分析

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