Vistec SB254:高性能电子束光刻技术

Vistec SB254是完全自动化的,高性能、具有成本效益的电子束光刻系统设计用于工业和先进的研究。基于变量成形波束(VSB)原理,利用这些工具在一个广泛的现有和新兴半导体和纳米技术应用程序包括硅直接写,化合物半导体,掩模制造、集成光学、和硅光子学。

细胞投影功能(可选)提高吞吐量和富达的重复或曲线结构模式。

完全自动化的基质处理、调整和对齐允许没有手动交互操作。光刻系统符合半导体生产环境和准备根据半自动化设备远程监控和控制标准。2020欧洲杯下注官网

主要特点

基板尺寸

• 200毫米晶圆/面具多达7英寸

电子光学

• 变量的梁/ 50 kv /细胞投影(选项)

梁的尺寸

• 2µm x 2µm

位置网格

• 1 / 0.5 nm / 0.25 nm(每个布局模式选择)

基板处理

• 通过SMIF舱完全自动化处理

编写风险敞口

• 灵活调整策略(标志或者图片对齐,晶片或面具边缘检测)

数据准备

• 专用ePLACE软件优化接触的结果,包括压裂,校正过程,仿真和可视化

洁净室的足迹

• < 20平方米(包括服务区域)