反射IonEtching-PlasmaPro80RIE

牛津仪器PlasmaPro80反应离子推理系统网站简单易用,不损及流程质量

开放负载设计可快速编织卸载,使它理想用于研究、原型制作和低容量制作允许高性能进程,帮助改善电极冷却和极优基温控制

亮点

  • 开放负载设计可快速编织加卸
  • 低成本拥有
  • 构建半S2/S8标准
  • 杰出拉希控件和速率判定
  • 杰出毛线温度一致性
  • 最大200毫米宽幅

系统特征

  • 紧凑脚印-简单网站
  • 优化电极冷却-基温控制
  • 高导线对称泵配置-改进流程一致性和保费
  • 添加 <500米数据日志-可追踪性及分组和进程条件历史
  • X20控制系统-增加数据检索并提供更快和更多可重复匹配
  • 易获取关键构件-增强可用性和维护
  • 欧洲杯足球竞彩激光端点检测方法-量化反射面透明材料深度(例如Si氧化物)或非透明材料反射法(像金属)识别图层边界
  • 紧凑联动涡轮泵-高泵速度和突出基压
  • 光排光谱测定大样本或批量端定点-辨识进取副产品变化或反应性气体种类耗竭和室净端定点
  • 故障工具诊断前端软件快速故障诊断

应用

  • 三维进程
  • 硬掩码高清晰度LED制作
  • 硅博施和冷藏进程
  • 钻石类碳沉降
  • 小O2石英推理
  • 故障解析干脱法使用特殊配置PlasmaProFA工具从打包芯片到死通通通200毫米长叉

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7微m聚性特征REI

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