EAnstrom工程的物理蒸汽沉积平台系列允许令人难以置信的过程和应用程序多用途。
- nexdep.：100 mm x 100 mm基板标准。1 - 8来源。
- Amod.：150 mm x 150 mm的基板标准。1 - 10来源。
- evovac.：150 mm x 150 mm的基板标准。更多来源的空间和源头源增加距离）。1 - 14个来源。
*注意：可以容纳更大的基板尺寸。请联系我们讨论。
其中一种薄膜沉积工作应该完全适合您的工艺要求。我们的应用工程团队将与您密切合作，以确定什么样的源、基材处理和过程增强技术将与您将要做的工作最相关。
这三种装置都可以容纳溅射、电子束和热阻源，以及用于清洁和增强薄膜的一系列离子源。
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标准关键特征
- 空气集成控制软件标准标配，并拥有在整个过程中创建和控制食谱的能力，通过预沉积，通过层控制（包括前所未有的低速稳定性），阶段控制，气体和压力控制以及自动化
- 定制旨在满足您的流程要求
- 支持多种PVD工艺
- 顺序或共
- 每个系统都可以安装和多用户现场培训
- 我们的详细培训手册教授新用户如何运营和维护设备2020欧洲杯下注官网
- 用户安全对腔室打开时的源诸如切割电源的特性保持圆概
- Angstrom着名的服务。我们备份我们的产品。
- 24小时响应保证:如果您打电话或发邮件，我们会在24小时内回复您，以便您能得到您需要的支持
可选功能
- 手套箱集成
- 铝或不锈钢室选项
- 可提供国际输入电压
- 高真空或超高真空配置
- 加热，冷却和偏置阶段
- 行星和圆顶夹具
- 将锁定和半自动化基板和掩模处理
- 滚动加工
- 用于创建复杂纳米结构和图像涂层的可变角度阶段
- 进一步定制可用。与我们的应用工程团队交谈时，讨论所有要求。
用户推荐书
在DuPont显示器上，正在制造各种潜在应用的OLED显示器。虽然解决方案的显示器是目标，但也研究了各种蒸发的OLED，以进行比较和对照。
在这方面，具有多种来源的埃伯斯特罗姆工程Evovac蒸发器一直非常宝贵。可以实现非常好的薄膜均匀性和速率控制。从2或3个源共沉积是可能的，并且系统设计有利于薄膜内的组成变异性，从跑步运行。原位掩模可能是可能的，允许多层图案化涂层而没有真空突破。
将不同气相沉积技术的整合在一个腔室中对研究特别有用。
Shiva Prakash博士，美国Goleta，杜邦展示
我们有几家拥有超过2,000,000.00美元的实验室，包括30多家供应商和埃斯特罗姆工程的设备2020欧洲杯下注官网最优惠的客户服务。
圣芭芭拉加州大学·卢瓦文博士