用于金属分析的南大略的Oblf OES(光发射光谱仪)

蒂姆瞪着概要向我们展示其倾斜OES(光发射光谱系统),用于分析包括痕量元素分析的金属。该系统采用新技术,使仪器能够同时进行2次测量,结果在大约15秒内产生。

Oblf OES系统适用于以下应用:

  • 铸造件
  • 废金属分析
  • 金属样品分析
  • 质量控制
  • 收到股票检查

注意:南大略代表了美国销售,应用支持和工厂培训服务的Oblf光学发射系统。“

运行时间 - 3:17min

来自苏利加的Oblf OES系统

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