2004年5月6日
美国国家标准与技术研究所(NIST)将资助由分子印记．该合资企业将在关键的半导体路线图节点开发纳米压印光刻技术。
其他合资伙伴包括KLA-Tencor、Photronics、摩托罗拉实验室和德克萨斯大学奥斯汀分校。他们将与分子印迹公司共同出资1910万美元，NIST将出资1760万美元。
该项目的目标是建立与台阶和闪光压印光刻(S-FIL™)工艺相关的必要技术基础设施，包括系统、材料和模板(掩模)开发。欧洲杯足球竞彩这个为期三年的项目将专注于高密度接触层，这是硅集成电路制造的关键。
该技术将满足苛刻的硅CMOS光刻要求。
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