2008年12月14日
MAPPER光刻和CEA-Leti,法国领先的半导体研究机构,今天签署了一项协议根据映射器将船300毫米电子束直写光刻平台CEA-Leti在格勒诺布尔。机器将用于一个新的工业项目叫做想象IC公司将评估映射器的技术开发集成电路无掩模光刻技术制造。
映射器的“这是一个很好的机会”,映射器的首席执行官克里斯托弗·海格博士说。“通过这台机器运送到CEA-Leti和执行一个行业发展计划在未来的三年里,映射器将有机会来验证我们的技术的适用性与许多不同的公司。CEA-Leti在电子束技术领域的专业知识使他们理想的伴侣对我们我们的技术集成到生产基础设施,使其生产做好准备。这允许公司参与抵制和数据处理技术发展所需的基础设施为22纳米做好准备。”
采取无掩模光刻技术下一步
劳伦特博士Mallier CEA-Leti州的首席执行官:“CEA-Leti的电子束技术在集成电路制造的丰富经验和映射器的技术是一个完美的适合主机CEA-Leti国际项目。我们已经非常成功地映射器工作在欧洲魔术节目。这台机器在我们的网站将使我们采取无掩模光刻技术的下一步发展应22纳米制造一个可行的解决方案。”
想象程序将涵盖了广泛的话题,包括工具评估、模式和过程集成、数据处理和拥有成本研究。CEA-Leti和映射器目前在选择的过程中半导体公司加入该计划。
来源:https://www.asml.com/en