Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：Veco），为客户提供支持HB-LED，太阳能，数据存储，半导体，科学研究和工业市场的解决方案，今天宣布推出了Nexus CVD系统，该行业的第一个生产验证的化学气相沉积（CVD）系统要求保留的种子层应用。Nexus CVD系统能够制造下一代垂直磁记录（PMR）薄膜磁头（TFMH），具有大于400 GB / IN2的面密度。
罗伯特副总裁们评论道，“为了满足保形金属沉积过程，使新一代PMR头部能够与领先的薄膜头制造商合作开发Nexus CVD系统。如这种成功的合作，多个Veeco Nexus CVD系统目前正在领先的硬盘驱动器制造商中用于TFMH生产，我们现在正式将其推出到更广泛的市场。此外，Veeco很高兴地宣布一秒钟硬盘制造商已为Nexus CVD系统订购。“
营销副总裁James T. Jenson补充道，“Nexus CVD工具是Veeco与我们的数据存储客户的技术路线图的一个伟大示例，因为它们投资增加了创造的密度和较低的所有权解决方案成本。”作为Veeco的Nexus系列的一部分，Nexus CVD系统可以集成在具有互补的Veeco技术的公共硬件和软件平台上，例如离子束蚀刻，离子束沉积和物理气相沉积。