写的氮杂2004年8月4日
ASTM.委员会G02的磨损和侵蚀已经致力于通过创建任务组来规范化学机械抛光过程，以开发建议的新标准，暂定标题的化学机械抛光垫，浆料和垫护发素的磨损和摩擦测试的测试方法。抛光（CMP）。该活动已被分配ASTM工作项编号WK5036，属于磨料磨损小组委员会G02.30的管辖范围。
化学机械抛光是过去10年来半导体工业的最快增长的段之一。然而，对化学机械抛光的兴趣没有限于半导体，目前用于精密玻璃，光学和磁性介质以及其他高科技行业的数千种化学机械抛光剂。
尽管化学机械抛光机受欢迎，但由于缺乏标准化，CMP行业的增长受到限制。例如，没有CMP消耗品的入境，例如行业中的抛光垫，浆料和焊盘调节剂，导致戏剧性的过程波动。此外，还缺乏测试程序和测试设备来表征CMP材料。2020欧洲杯下注官网欧洲杯足球竞彩
摩擦学中心的Norm Gitis说:“提出的新标准将有助于高科技产业合作开发CMP材料的标准化有效测试程序。”他还指出，所有感兴趣的各方都被邀请加入工作组。欧洲杯足球竞彩“标准的工作已经开始，我们正在寻找来自各个行业和学术界的合作者。”
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