建立在市场领先的蚀刻硬件的声誉，在牛津仪器等离子体技术已经开发了其系统133 RIE-ICP380工具的进化。
该新技术是一种提高等离子体在电极上的均匀性的有源间隔片，在晶圆和交叉批内都能获得优异的蚀刻结果。它的一个主要优点是允许批量大小从20 x 2”GaN晶圆增加到27 x 2”，或者巨大的7 x 4”GaN晶圆和18 x 2”蓝宝石晶圆。
首席应用工程师Mark Dineen博士说:“OIPT的新间隔器可以随意调节均匀性，这简化了过程。这可以提高流程性能和更高的吞吐量，这对我们的生产客户至关重要。”
该隔离器可在现场改造其系统。
OIPT的System 133工艺模块是建立在一个300mm的平台上，具有多批处理能力，并保证在安装期间快速启动。它可以聚集在一起以组合技术和过程，提供最大的灵活性。OIPT工具在全球已安装超过2000种工具，其正常运行时间超过90%。