Eco-Snow系统正在帮助美国主要光掩模制造商节省资金,提高其光掩模的质量和十字线清洗技术为28 nm DRAM半个球场设计技术节点。
Eco-Snow系统的附属林德集团自动化的主要供应商,二氧化碳(CO2)的半导体行业清洁工具和流程。
光掩模制造商已经使用Eco-Snow MaskClean 150几个月面具现在在生产,技术的发展以及2014年28 nm节点安排生产。
总经理乔•克拉克Eco-Snow系统,说:“新Eco-Snow MaskClean 150技术是一个完整的面具清洁工具,提供显著的成本节约。技术允许制造商开始减少面具,以确保一个完整的光掩模或十字线满足规范。这个厂家说现在能够开始减少20%面具和有信心的一个好的面具。”
因为即使是一个小粒子离开在制造过程中会毁了一个光罩,制造商需要精确的清洁,以确保零印刷缺陷在集成电路面具和十字线是用于生产。
MaskClean 150系统帮助制造商实现三个主要目标:系统回收面具通过移除污染物留下的湿法净化;保护面具质量减少腐蚀性湿法净化周期所需的数量,降低了周期时间需要创建面具,因为更少的清洁是必要的。
150年“Eco-Snow MaskClean技术需要干燥的二氧化碳所带来的好处雪清洁技术提升到一个更高的水平。它使用的最高纯度二氧化碳和较小的CO2雪粒径清洁整个光罩。这样可以确保最小的面具特性可以多次清洗和修复不引起物理或化学损伤,”克拉克说。
MaskClean 150系统在SMIF豆荚还接受面具,使其符合当代面具生产工具集和可用性延伸到至少2014年。