对于寻求亚气流掺杂气源的半导体制造商，它将以较低的成本提供高性能林德北美有答案：Genii亚气流气源。
林德北美是Linde Group的成员，Linde Group是世界领先的气体和工程集团，也是半导体和电子制造业的高纯气气体和技术的主要供应商。新的Linde离子植入气体使用化学复合或电化学发电作为实现综合电路（IC）制造商所需的性能特征的一种手段。
离子植入是综合电路制造的关键步骤。它是将掺杂气体（例如砷，磷酸和硼三氟烷）引入硅底物的方法。与高压替代品相比，IC制造商更喜欢在大气压缸中使用掺杂剂。
Linde's Electronics Electronics Business Marketing副总裁Peter Thomas说：“ Linde的Genii亚气流气体源为IC制造商提供了较低的所有权，高性能的替代品，替代了目前市场上其他大气的其他大气产品。”。
IC制造商网站上的Beta测试证明，Genii气体来源可以将制造商的离子植入物成本降低至少20％，而不会影响设备性能。
Linde在Genii掺杂线中提供两种技术。一个人从圆柱体中的电化学发电机的亚气流压力下产生砷。第二种通过与圆柱体中含有的离子液体进行化学络合，将富集的硼或磷酸提供。托马斯说：“这两种技术都提供了制造商所需的性能和效率。”他说：“这是林德对电子行业开发新产品的持续承诺的演示。”