希登分析宣布新的Maxim SIMS / SNMS工作站通过二次离子和溅射中性质谱法组合高灵敏度表面测量，全部在集成的PC控制下。
新的SIMS工作站
该系统适用于静态和动态测量，并完全超高压兼容选择的氧，氩和铯离子源的宽光束应用和精细聚焦操作到20微米光斑大小。工作站可接受不同类型的样品，并与内置的元素表面成像程序一起提供表面成分和/或深度剖面特征的定量分析。
高透射质谱仪监测正离子和负离子，集成电子轰击离子源安装在样品表面有效地提供预电离溅射中性。质量范围为1000 amu，此外，该系统提供了特殊的灵敏度最低的分子质量物种硼，铍和锂到单原子氢。
PC接口控制数据采集门控和扫描区域光栅集成物种和扫描坐标应用到Hiden ESM Labview表面成像程序。全光栅区域最大可由用户定义4mm × 4mm，从第二个内部定义区域获取数据，以消除弹坑侧壁干扰。
该系统包括快速入口负载锁和采样传输级，电子束充电补偿，CCD相机和烘焙外壳。主真空室是多程序的，可用于安装附加附件并提供系统配置选项。独立涡轮分子泵浦用于主腔室，离子枪和样品载荷锁定，以确保全UHV操作，系统底部压力小于10E-9曼巴。