Pall公司(纽约证券交易所股票代码:PLL)今天宣布了用于半导体制造的下一代高度不对称膜技术，该技术将湿化学过滤性能提高到10纳米水平，并降低了能源成本。
新的Pall multipleat®SP DR系列滤芯将于7月13日至15日在美国旧金山举行的SEMICON West 2010展会上亮相，这是全球微电子行业的旗舰年度活动，展位号为1721。
Pall微电子总裁Jon Weiner表示:“Pall的新型multipleat SP DR系列过滤器通过提高前线(FEOL)湿化学表面制备工艺的过滤效率，减少了缺陷并提高了生产效率。“这包括关键的预清洁阶段，其中需要去除粒径小于10纳米的‘致命缺陷’。”
在半导体器件制造过程的许多阶段，表面准备需要湿化学清洗来去除污染。超清洁的multipleat SP DR膜材料与典型的表面制备和70摄氏度的清洗化学物质兼容。
该过滤器的专利膜技术提高了近50%的过滤性能比现有的过滤器设计。它使用了一种先进的非含氟聚合物材料，提供了一种耐化学腐蚀和更亲水的全氟聚合物过滤器替代品。专利的分级孔隙结构实现了10纳米的保留，同时流体的高渗透率降低了泵的负荷，从而降低了能源成本。
Jon Weiner说:“新的multipleat SP DR过滤器是Pall致力于帮助微电子客户解决下一代应用中的污染控制和可持续性挑战的一部分。”
来源:http://www.pall.com/