未来的半导体生产用极端的紫外线

半导体产业是一个重大技术突破的边缘。从2009年开始,电路将由暴露在极端的紫外线(EUV)射线。亚琛的研究人员获得了Stifterverband科学奖——不仅对EUV来源。欧洲杯线上买球

半导体制造的初期以来,芯片是由光照。步进项目光通过掩模在硅片表面涂有光刻胶,从而转移的微小结构。更适合在一个芯片上的晶体管,结构必须做得更小。制造商因此被迫转向与生命终了前波长光源,事实上,使用先进的技术使得他们产生结构甚至小于波长。今天,处理器使用90纳米制造技术在准分子激光光刻植物在193纳米波长的紫外线范围。然而,传统的光学光刻技术达到其物理极限的能力约为50 nm。

这种情况下要求全新的光刻方法的发展。因为巨大的研究和开发成本超出个人的制造商,半导体行业调查等各种技术存在极端的紫外线EUV, x射线、电子束和离子束光刻,选择最有前途的技术:EUV。这种技术现在功能路线图的半导体制造商。例如,英特尔计划在大规模生产芯片从2009年开始使用它。

EUV光刻使用辐射波长只有13.5纳米。然而,这种飞跃技术代表了一个更大的挑战比以往搬到新一代,因为这意味着开发全新的光源,光学组件和光刻胶完成。自从EUV吸收所有的材料,包括空气,整个lithograp欧洲杯足球竞彩hical过程必须在真空中进行。传统光学系统无法聚焦光的波长短,所以多层镜必须被使用。半导体制造商因此面临大量的未解决的技术问题和一个巨大的投资风险。

“EUV光刻的关键是有一个高效和经济EUV源代码可用,“强调的克劳斯·伯格曼弗劳恩霍夫研究所激光技术教师。EUV极热等离子体的辐射可以产生在两种不同的方式:通过气体放电或激光感应。Aachen-based研究所的研究人员提出了一个空心阴极气体放电的方法,这为他们赢得了优秀评级在国际比较。识别的研究和行业之间的密切的和富有成果的合作,该联盟包括弗劳恩霍夫教师、激光技术在亚琛工业部门和两个工业企业AIXUV和飞利浦好多紫外线,是获得科学奖Stifterverband(捐助者协会促进人文和科学)Fraunhofer-Gesellschaft的年度大会。欧洲杯线上买球

专利的概念基础的教师和激光技术的时期从1997年到2000年。国际比较表明,所提出的解决方案“亚琛灯”是优越的。然而,它需要强有力的合作伙伴,在工业,使它有效地竞争。在2000年,Rainer Lebert——当时受雇于弗劳恩霍夫ILT——剥离一个新的公司,AIXUV。公司制造和销售紧凑、可靠的EUV来源基本调查实验室、EUV测量和跟踪系统工程和质量保证。“我们提供的英飞凌与EUV光刻胶曝光设备已经能够生产50纳米结构。然后Schott,面具资格,我们开发了一个反射计”Lebert说,回忆起他的两个以前的作业。

研究者进一步重要一步工业规模的生产在2001年飞利浦极端紫外线GmbH是一家现代化的、可靠的基础,Fraunhofer-Gesellschaft和飞利浦的一家合资企业。该公司的使命是开发EUV来源系列半导体的生产。它的第一步是与ASML签订一份合同,光刻设备的主要制造商在荷兰,四的原型。2020欧洲杯下注官网“我们一开始很好地与我们的竞争对手在美国和日本相比,”约瑟夫·Pankert说飞利浦首席执行官极端的紫外线。“目前,英特尔是应用高压。概念的巨大优势是最便宜、最简单、最紧凑。我们计划提供高性能的下一个原型EUV明年ASML来源。”

半导体行业征收非常高的要求。的EUV光源必须产生一个输出至少100 W。研究人员为飞利浦极端紫外线同时成功地改善大约30 W的世界纪录。具有成本效益的芯片生产要求大约每小时120晶片的接触。等离子体规模不得超过1毫米,和温度必须达到220000°C。这种极端的温度只能控制在高能量短脉冲光源,以免破坏材料制成。欧洲杯足球竞彩

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