Applied 欧洲杯足球竞彩Material,Inc。今天推出了其新的应用Centura(R)Advantedge(TM)MESA(TM)系统,用于在下一代DRAM,闪光灯和逻辑器件中创建具有抗埃级精度的纳米级电路功能。
由于硅蚀刻技术的这种关键突破,所施加的效果对Advanteded Mesa系统的需求非常迅速。过去三个月有超过60家的房间 - 32nm芯片生产和22nm开发的录制工具。
“我们的客户热心采用EventedEde Mesa系统说明了该行业的强大未支配需求,蚀刻技术能够制造高密度存储器设备和节能微处理器,”Applied蚀刻商业部总经理副总裁兼总经理Ellie Yieh说。“通过释放芯片制造商来避免补偿系统的不均匀局限性,MESA系统可以是帮助客户收缩电路功能,控制漏电流并实现构建未来所需的高产量的关键工具。“
EvalidedE MESA系统的关键是其新的电感耦合等离子体(ICP)源设计,消除了具有限制了所有基于ICP的系统性能的特性“蚀刻签名”。MESA的ICP源提供真正平坦的均匀型材,使光刻图案精确地将光刻图案转移到晶片的极端边缘,以显着增加模具产量。针对临界浅沟槽隔离,埋设的位和字线,以及双图案化硅蚀刻应用,Advantedge Mesa系统的最佳性能提供1%蚀刻深度不均匀性,子纳米CD均匀性,以及最高可用的晶片吞吐量。
应用的大型安装的现有Eventredge系统底座可以用MESA技术升级,提供设备制造商使用经过验证平台的多个设备代的顺利升级路径。
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