应用材料公司今天欧洲杯足球竞彩宣布其突破应用生产商®绮年华™FCVD™(可流动的CVD1)系统中,第一个也是唯一一个薄膜沉积技术的电隔离的晶体管密密麻麻20 nm-and-below存储器和逻辑芯片设计与高质量的介电薄膜。
这些晶体管之间的差距可以纵横比超过30:1的- 5倍目前的需求和高度复杂的配置文件。的绮年华FCVD系统独特的自下而上的过程完全填补这些差距,提供密集,无碳介质膜在一半的成本自旋对沉积方法——需要更多的设备,许多额外的流程步骤。2020欧洲杯下注官网
“需要填补小和深层结构先进的芯片设计创建一个物理障碍为现有沉积技术。应用突破这一屏障今天通过引入新的绮年华FCVD系统——提供颠覆性技术,可以使摩尔定律的持续进步,”副总裁和总经理问麦克林托克比尔说应用的DSM / CMP2业务单元。“绮年华FCVD系统,应用在gap-fill继续它的十年的领导技术,提供一个独特的、简化的挑战和具有成本效益的解决方案为客户满足多个新芯片代。”
应用的专有绮年华FCVD过程提供了一个电影,自由流动到几乎任何液状物结构形状提供自底向上,紧密的。的绮年华FCVD系统是安装在六个客户网站DRAM, Flash和逻辑应用程序,集成应用的基准平台生产商。
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