应用材料公司今天欧洲杯足球竞彩宣布了其应用Aera3™掩膜检测系统,使掩膜和芯片制造商能够使用其经过验证的航空成像技术,在22nm范围内应对所有掩膜最关键的缺陷检测挑战。
在突破性的Aera2系统上建立,新系统将检测灵敏度提高50%,从而能够检查较小的电路功能,同时提高其根据其对晶片的影响分类掩模缺陷的独特能力。这种关键好处使Aera3系统成为最快,最准确的掩模资格解决方案。
今天的先进光刻采用双图案化(DP)和源掩模优化(SMO)技术,其中掩模上的特征几乎没有与印刷晶片上的最终图案相似的相似之处。传统的高分辨率检测系统使用模型来模拟晶片上的投影掩模图像,并且难以确定哪些缺陷很重要。Aera3系统的增强的空中成像技术模拟了光刻扫描仪的光学系统,允许用户立即看出缺陷是否会导致问题或可以安全地忽略。
Aera3系统引入了多项创新技术,它们结合在一起提高了检测灵敏度,包括更强大的光源、更小的像素尺寸、复杂的照明整形和偏振。此外,Aera3是第一个能够使用照明整形检查极紫外光刻(EUVL)掩模的系统。这种对比度增强技术,再加上超小的67nm像素尺寸,使可选的EUVL模块能够检测小至12nm的缺陷,使Aera3系统成为支持客户开发EUVL寻径的理想工具。
“Aera3系统的基准能力是我们与全球尖端面具商店密切合作的结果,”应用程序诊断与控制部的副总裁兼总经理Ronen Benzion表示。“系统解决了下一代掩码的所有检查应用,使其成为快速限定新掩模的重要工具,并随着时间的推移跟踪掩模质量,使生产率提升到整个光刻电池。”
应用材料公司将在欧洲杯足球竞彩2010年在加州蒙特雷举行的SPIE掩模技术会议和展览上展示Aera3系统。
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