应用材料欧洲杯足球竞彩今天发布了其全新的Applied Centura Tetra X Advanced Reticle蚀刻系统，这是唯一能够蚀刻客户最具挑战性的22nm及以上器件层所需的掩模的系统。
扩大的功能应用的行业标准四第三平台,Tetra X打破了2 nm临界尺寸均匀性(CDU)屏障在所有特征尺寸,提供关键的面具的准确性,可以使面具制造商超过顾客的严格pattern-to-specification要求所有设备类型。
应用材料公司最新欧洲杯足球竞彩的Centura Tetra X掩膜刻蚀系统是唯一能够刻蚀半导体制造商最关键器件层的掩膜的系统。(照片:业务线)
Applied公司mask和TSV1蚀刻产品部副总裁兼总经理Ajay Kumar说:“下一代光刻技术对掩模提出了巨大的要求，其中图案的准确性至关重要。“只有Tetra X系统提供了实现这种精度所需的技术，使芯片制造商能够优化其高性能存储和逻辑芯片的光刻工艺能力。这一最先进的系统已经在一家领先的掩模车间获得了22nm生产的资格，证明了我们继续致力于为掩模客户提供世界级的蚀刻技术。”
Tetra X系统的均匀性性能，通过在所有特征尺寸和图案密度上提供高度均匀的线性蚀刻，同时保持几乎为零缺陷，从而为要求的双图案和源掩模优化(SMO)技术提供了更高的光刻分辨率。Tetra X系统采用了广泛的系统增强，包括专有的实时过程监控技术，以实现下一代硬掩膜、不透明的MoSi2和石英蚀刻工艺，用于制造先进的二元和相移掩膜。
在过去5年里，应用公司的Tetra系统已被全球掩模制造商用于蚀刻绝大多数高端掩模，包括几乎每一个32nm节点和EUVL3开发掩模。欲了解更多信息，请访问www.appliedmaterials.com/pro欧洲杯足球竞彩ducts/photomask_etch_4.html。
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