领先硬盘制造商选择的Veeco PVD和CVD技术

Veeco仪器公司。(Nasdaq:VECO)今天宣布,该公司已被全球领先的硬盘驱动器制造商选中,采用关键技术,为下一代薄膜磁头提供更高的面密度。

“我们的NEXUS(R)TAMR物理气相沉积(PVD)系统和NEXUS化学气相沉积(CVD)系统的最新订单,再加上久经考验的8英寸晶圆能力,表明Veeco作为一个合作伙伴的持续技术领先地位,使磁盘驱动器制造商能够增加存储容量。”数据存储执行副总裁Robert P.Oates评论道。“我们还在其他活性技术项目上密切合作,如用于头罩的类金刚石碳沉积和硬偏置解决方案。此类技术对于将面密度提高到1 Tb/in2及以上至关重要。”

NEXUS TAMR(热辅助磁记录)系统利用Veeco经生产验证的高速活性氧化铝平台和专有过程控制。NEXUS CVD系统能够在面密度大于500Gb/in2的情况下,为高级垂直磁记录(PMR)提供钌沉积。

引用

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  • 美国心理学协会

    维科。(2019年2月10日)。Veeco PVD和CVD技术由领先硬盘制造商选择。亚速姆。于2021年11月14日从//www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=25020.

  • MLA

    维科。“领先硬盘制造商选择的Veeco PVD和CVD技术”。亚速姆. 2021年11月14日.

  • 芝加哥

    维科。“领先硬盘制造商选择的Veeco PVD和CVD技术”。AZoM。//www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=25020。(2021年11月14日生效)。

  • 哈佛大学

    维科。2019领先硬盘制造商选择的Veeco PVD和CVD技术.viewed september 21, //www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=25020。

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