牛津仪器等离子体技术对于HBLED制造商提供出色的益处，并推出PlasmApro NGP1000 HBLED系列等离子体蚀刻和沉积工具。与行业领先的批量尺寸无与伦比的吞吐量从61 x 2“晶片？最多7 x 6”晶圆，加上高质量的设备性能和产量，意味着牛津仪器能够为客户提供卓越的电机生产。
NGP1000系列旨在提高吞吐量，通过可靠的硬件和易于服务来最大化正常运行时间并降低所有权成本。NGP1000平台已针对批量生产进行优化，具有真空载荷锁定为标准。打开负载和4面群集选项可用。
“高亮度LED（HBLEDS）现在是我们生活中不可或缺的一部分，为越来越多的应用提供照明解决方案，从背光电视台到一般照明”，评论Mark Vosloo，牛津仪器等离子技术销售总监，“该行业合理要求高吞吐量，设备质量和较低的所有权成本，NGP1000提供所有这些解决方案。
牛津仪器等离子技术公司在生产市场上拥有超过15年的高批量等离子工具的世界领先供应商，拥有广泛的HBLED生产系统的安装基础。随着行业的不断发展，我们有技术和专业知识为客户提供最新的解决方案。”
PlasmApro NGP1000 PECVD系统专为沉积SiO 2和Sinx层，并包含大面积电极和优化的喷头设计，允许在单个负载中允许高达61×2“，15×4”或7×6“晶片。PlasmApro NGP1000蚀刻系统，专为GaN，Algainp和Sapphire蚀刻提供批量尺寸，可达55 x 2“，13 x 4”或5 x 6“，产生市场领先的晶片/月。
通过新推出的60MHz VIPER等离子体源提供优异的大面积均匀性。这种创新的来源使得ICP来源的可比较等离子体密度，保持高蚀刻率和低损坏的益处。
这种最新的系统开发强化了牛津工具的目的是，基于我们在最小规模分析和操纵物质的能力，成为工业和研究市场的新一代工具和系统的领先供应商。该公司采用创新将智能科学转变为世界级产品，支持研究和行业，以解决21世纪的巨大挑战。欧洲杯线上买球