ev组（evg）是MEMS，纳米技术和半导体市场的晶圆粘接和光刻设备的领先供应商，今天宣布收到来自Fraunhofer研究机2020欧洲杯下注官网构的电子纳米系统恩斯（Chemnitz，德国）的首次订单。
Fraunhofer Zhas购买了EVG6200NT自动掩模对齐器和EVG540自动晶片粘合剂，并将采用灵活的多工艺EVG系统，用于掩模光刻，紫外线纳米压印光刻（UV-NIL），粘合对准，粘接和热压花（HE）。将使Fraunhofer ENA能够将产品晶片加工直径高达200毫米的产品晶片，以11月初提供。
Fraunhofer ENAS与开姆尼茨理工大学的微技术中心密切合作，运营着最先进的洁净室设施。该研究所与世界各地的主要客户密切合作，专注于MEMS/NEMS、后端(BEOL)微纳电子工艺、3D IC集成和可靠性的工业研究。据Fraunhofer ENAS的教授兼主任Thomas Gessner博士表示，这家著名机构选择EVG系统的主要原因是它们提供的先进技术能力。Gessner教授说:“NIL和热压印是扩展我们先进研发努力的关键过程。”“EVG系统使我们能够比其他竞争工具更好地实施这些技术。现在，我们可以在更大的晶片上进行全区域的纳米印迹，以及光学对齐的UV-NIL和HE，进一步扩展我们支持广谱工艺的能力。”
EVG最近宣布的软分子尺度UV-NIL，或SMS-NIL，技术模式的超高分辨率特性下至12.5 nm的EVG的已证实的UV-NIL系统。该技术使用柔软的聚合物工作印版，以避免损坏昂贵的母印版，因此，与其他纳米图版技术相比，处理成本显著降低。EVG报告说，SMS-NIL已经在工业环境中用于CMOS图像传感器、微透镜模塑和其他光学应用。
EVG公司技术开发和知识产权总监Markus Wimplinger表示:“来自Fraunhofer ENAS等领先研究合作伙伴的订单，突显了我们不断努力开发和实施新的前沿技术的价值，以补充和扩展我们系统的应用。”“我们工具的灵活性不仅使Fraunhofer ENAS能够在两个系统上进行多种光刻、定位和粘接工艺，而且通过两家公司的密切合作，EVG独特的SMS-NIL技术以及热压花工艺等工艺将得到实施和进一步改进。”
为了进一步支持其在MEMS领域的专业技术，EVG今天宣布了另一项MEMS市场的关键订单——挪威MEMS传感器制造商sensor Technologies AS订购了一款用于热成像制造的EVG Gemini。EVG还在其军火库中增加了另一种键合器，推出了新的EVG520L3半自动化、高真空晶圆键合系统，适用于3D IC、MEMS和CMOS兼容性的金属键合。
有兴趣了解更多关于EVG的SMS-NIL技术和广泛组合的晶圆粘合和光刻设备的人员在Semicon Ouropa，2010年10月19日至21日的Semicon Ouropa，2010年10月19日至19日，德累斯顿2020欧洲杯下注官网， 德国。