隐藏发布新的质谱仪真空应用手册

从希登分析2011年1月11日

希登分析发布了一个新的小册子，详细介绍了他们的质谱仪产品的范围，特别为特殊的真空过程应用在不同的压力制度下，从次大气到超高真空。

特定于应用的系统被配置用于监测，控制和分析与薄膜沉积相关的各种方法，与等离子体和离子束蚀刻，以及热反应和解吸过程。系统可用于天然气组成的实时测量，以及积极和负等离子体离子物种和离子能量，与专用的工艺界面完全设计。适用的过程技术包括ALD，CVD和MOCVD，MBE，RIE和IBE / RIBE。

二次离子和二次中性质谱联用仪(SIMS/SNMS)提供产品表面和次表面成分的后处理定量测量。这些系统作为完整的工作站提供，也以组件形式提供，用于升级现有的特高压表面分析工具。

有关所有隐藏分析产品的小册子和进一步信息，请与隐藏分析联系[电子邮件受保护]或者访问www.hidenanalytical.com的主要网站

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针孔分析。(2019年,09年2月)。隐藏发布新的质谱仪真空应用手册。AZoM。于2021年9月12日从//www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=26966检索。
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针孔分析。“隐藏发布新的质谱仪真空应用手册”。AZoM．2021年9月12日。。
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针孔分析。“隐藏发布新的质谱仪真空应用手册”。AZoM。//www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=26966。(2021年9月12日生效)。
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希登分析》2019。隐藏发布新的质谱仪真空应用手册．viewed September 12, //www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=26966。