从VeraSpec跟踪系统Extrel为纯气体分析和一般气体分析提供了理想的电离技术。纯气体中杂质的痕量分析在半导体和其他高技术工业应用的开发和实施中是一项关键能力。
新技术对散装气体纯度提出了更高的标准，净化系统的性能得到了改善，并在输送点对散装气体纯度进行了验证。
VeraSpec Trace可以配置为电子冲击电离(EI)和大气压力电离(API)技术，消除了对两个系统的需要，并显著降低了总成本。本系统采用封闭式电子冲击电离源或可靠的直流电晕放电大气压电离源。直流电晕放电源是一个化学或软电离源，是理想的监测分子在ppb和ppt范围。
标准EI源的检出限在ppb范围内，而膜引入质谱(MIMS)可以为某些组分提供sub ppb的检出限。VeraSpec Trace系统采用19毫米三滤波器四极杆，质量范围从1 amu到4000 amu，也可在MS/MS配置。