2005年3月31日
VEECO仪器已宣布引入Nexus 420离子源。专门为下一代薄膜磁头（TFMH）生产而设计的，以最大程度地提高Veeco的Nexus离子束蚀刻系统的性能，该新离子源可在所有TFMH蚀刻过程中提供无与伦比的均匀性和可重复性，包括垂直和纵向极点和纵向极点，空气轴承，表面轮廓以及TMR和CPP传感器定义。
“随着面积的密度不断增加，我们的数据存储客户必须不断改善其流程，以跟上缩小的临界维度和更严格的流程控制。新的Nexus 420离子源扩展了Veeco在离子光束技术中的领导地位，并代表了源设计的突破性，” Veeco的离子光束设备集团副总裁，总经理Robert P. Oates说。2020欧洲杯下注官网“这种强大的离子源可提供更大的动态能量范围，并在3D均匀性方面提高了两到三倍的改善，从而改善了对蚀刻工艺的控制。VEECO已通过关键的TFMH制造商完成了对新Nexus源的广泛β测试，显示出极好在整个网格寿命中，可重复的蚀刻特性证明了过程匹配。”
Nexus 420离子源旨在减少网格变化的影响，以最大程度地进行过程性能，并在低能量下改善吞吐量。除了出色的均匀性和无与伦比的运行重复性外，它还具有宽的能量范围（100EV至1500EV），可在各种晶圆和滑块蚀刻过程中获得最大的控制。
Veeco Nexus产品线利用了一个通用平台体系结构，该平台体系结构可以使不同的VEECO工艺技术（离子束蚀刻，离子束沉积，ALD和PVD）无缝地在常见的群集工具配置和通用软件上无缝工作。Nexus平台灵活性最大化资本资产的使用，并能够开发下一代TFMH设计。
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