XEI科学公司该公司是著名的电子显微镜和其他真空室等离子清洗系统的制造商，报告了使用氢气清洗碳去污的用途。
xie Scientific, Inc.继续扩大vactron E45去污系统的使用。三月初，Gabe Morgan博士在SPIE高级光刻会议上的演讲表明，使用真空加速器等离子体产生的原子氢可以有效地清除极紫外光学系统中的碳污染。
XEI Scientific的aevtron E45净化系统用于光刻应用
为了使半导体行业继续制造更小的功能，光刻系统正转向更短的波长，如EUV和非常复杂和昂贵的光学所需的氧气清洗可能会损坏。使用氢气的真空等离子体清洗系统已经产生了原子氢，并成功地去除了EUV反射镜中的碳氢化合物污染。在距离远端等离子体源30厘米的距离内，可以看到清洁率在纳米每分钟范围内。
XEI和该领域的一些合作伙伴正在继续优化系统参数，为未来半导体生产的重要解决方案提供特性良好、可靠的下游等离子体清洗。
XEI的机架式模型可以嵌入到sem、fib和其他电子束系统中。它们去除碳污染，如碳氢化合物或大气污染。所有的真空除污染器(D-Cs)系统都使用射频等离子体产生氧气自由基，这些氧自由基下游流经室，清除污染。它们也可以安全地用于x光窗，并提供免费的5年有限保修和工厂维修服务。