一家韩国记忆制造商购买了ACM Research Shanghai的Ultra C 12英寸单磁力巨型清洁装置，该设备使用其空间偏移（SAPS）技术。这是该公司专有技术的第一阶，适合在45 nm生产节点及以后删除纳米颗粒。欧洲杯猜球平台
The Ultra C provides higher particle removal efficiency (PRE) with less material loss and utilizes functional water having ultra-low chemical concentration without adverse chemicals. It delivers 74% PRE for removing particles between 44 and 65 nm and 96% PRE for particles at 65 nm and beyond, with material loss of below 0.2 Å/cleaning step. Thus, it offers an increase of 1.3% in production output at the 45 nm node.
ACM的专有SAPS Megasonic Technology提供了极为一致的大型巨型功率密度，以获得晶圆到晶片，并且在2％以下的晶圆不均匀范围内。大型功率是有效的，因为该过程会产生空化或气泡的产生，从而有助于去除颗粒并导致它们到达表面。欧洲杯猜球平台控制大型能源的机械工艺窗口非常重要，以便限制能量以仅创建空化而不会损坏图案化的晶圆。
在整个晶片中保持极其一致的能量分布非常重要，因为在不产生损坏的情况下获得上级PRE的过程窗口非常狭窄。如果没有发生巨大力量的均匀分布，晶圆将获得热点，其中大量力量更多，从而使气泡破裂。ACM的SAPS巨型技术采用了稳定的气泡泡沫振荡工艺，这使得泡沫不断地放气和膨胀而不会破裂。
SAPS Technology提供零破坏的巨型清洁，对于上级PRES，在1S时为2％的能量分布非常一致。ACM Research的创始人兼首席执行官David Wang表示，SAPS Megasonic技术被主要的IC生产商广泛认为是删除纳米颗粒的可行工具。欧洲杯猜球平台他补充说，Ultra C是45nm生产节点及以上竞争性清洁技术的更好替代方法。Ultra C提供了在金属前，蚀刻后，氧化，植入后，遮盖前和栅极蚀刻过程中的精致清洁。
Source: ACM Research Inc.