牛津仪器该公司本周推出了最新一代的等离子腐蚀和沉积工具PlasmaPro 100系统，具有世界领先的性能。该系统非常适合于许多关键的市场应用，包括MEMS, HBLED，半导体电子，失效分析和光伏。
牛津仪器公司最新一代的蚀刻和沉积工具PlasmaPro 100系统
这是一个先进的，创新的系统，已由牛津仪器公司开发，以满足生产用户的严格需求，他们不仅要求最新的技术创新，而且一流的客户支持公司提供。
作为等离子刻蚀和沉积系统的行业领先制造商，牛津仪器不断努力改进和发展其系统，以提供最终的工具。这个最新的系统提供:
- PECVD硬件的演变，提供了高质量SiO2和SiNx沉积速率的阶阶式变化，并相应减少了清洗开销
- 最新一代的眼镜蛇ICP源，提高了腐蚀速率和特性控制能力
- 行业认可的机器人处理和能力，加强了牛津仪器作为“即插即用”硬件和优化流程供应商的地位
- 增强的系统控制基础设施和软件接口，为客户提供改进的诊断、可靠性和可服务性
PlasmaPro 100是一个高度可配置的系统，为牛津仪器等离子体技术的所有工艺和技术提供了一个共同的平台，具有独立模块或集群配置的工艺室。
高级产品经理Ian McKinlay评论说:“我们所有的工具都拥有行业领先的技术和自动化，已被证明超过90%的正常运行时间，这个最新的产品版本提供了真正的过程改进，在一系列应用中提供了优秀的一致性和高吞吐量的过程。”作为领先的等离子工具制造商，我们拥有超过6000种工艺配方的独家资料库，超过25年的历史，保证我们的客户拥有全面的、市场领先的备份产品。”