Mattson Technology是尖端半导体处理设备的提供商，已报告其将其范式蚀刻系统运送到关键芯片制造商。2020欧洲杯下注官网
这是该半导体制造商提供的第一个蚀刻系统，该系统将使用该系统用于复杂的蚀刻应用，其中包括尖端模式乘以用于开发和生产高级IC的蚀刻蚀刻£20 nm技术节点。
多图案蚀刻技术，例如间隔者定义的双图案，四倍图案转移和双模式转移，可为IC制造商提供替换，以比现有的沉浸式光刻限制以比目前的实验性实验性紫外线刻板图低于现有的沉浸式光刻限制。然而，多模式蚀刻增加了晶圆生产设施蚀刻的总成本。
等离子产品集团副总裁兼总经理雷内·乔治（Rene George）表示，该公司的蚀刻系统可帮助芯片制造商控制不断增长的晶圆生产成本，这是他们在开发高级技术节点的努力方面所面临的关键问题之一。由于该行业将其转移到多模式蚀刻作为缩放复杂设备的主要推动者，因此干蚀刻的作用在模式缩小中至关重要。该范式的专有等离子体来源促进了该公司创新的两芯室设计中的高级蚀刻性能。高级蚀刻性能和两只磁带室设计的效率的结合有助于客户降低所有权。
几个关键的铸造厂，逻辑和内存设施已经在使用Mattson Technology的Etch产品，并且该最新订单证实了公司在干蚀刻市场中的扩展。该公司期望帮助Etch客户制作不断增长的高级图案和3D内存阵列和3D晶体管设备的其他复杂应用程序。它预计范式的高级蚀刻能力将导致众多客户的生产订单，以促进其20 nm的生产坡道。
来源：http://www.mattson.com