牛津仪器在本周于美国圣克拉拉举行的光战略会议上，应用专家Stephanie Baclet将在她题为“高通量抗涂层氮化镓蚀刻”的演讲中讨论高通量和高收率的问题。
牛津仪器公司的斯蒂芬妮·巴克雷本周在“光之战略”上发表演讲。
批量氮化镓LED生产的高吞吐量主要取决于批量大小、工艺时间和工具运行的正常运行时间。由于蚀刻过程的时间通常是固定的，以满足选择性、均匀性和外形规格，一个可以显著提高产量的领域是通过减少清洗周期，从而提高工具的正常运行时间。
本次演讲将探讨牛津仪器公司正在进行的工作，通过使用新的等离子体清洗室硬件来改进等离子体清洗过程等离子体Pro 1000批蚀刻工具。这种新的设计已经被证明可以以5倍于标准等离子体清洁速度来清洁腔室。结果，两个主要的积极结果是，等离子清洗的长度可能会大大缩短，机械清洗间隔增加。这两个因素都有助于显著提高批量处理GaN晶圆的整体吞吐量，从而降低成品器件的每流明成本。
牛津仪器在hbled的制造中发挥着重要作用，使全球照明行业发生巨大变化。该公司的等离子体Pro1000系统，能够蚀刻批尺寸为55 × 2”和14 × 4”的GaN晶圆，具有高均匀性和选择性，被许多主要的HBLED制造商使用，提供了市场领先的器件性能并降低了拥有成本。它们也用于其他发光技术的制造，如oled，提供从研发到大规模生产的过程解决方案。
关于牛津仪器等离子体技术
牛津仪器等离子技术提供灵活、可配置的工艺工具和前沿工艺，用于精密、可控和可重复的微纳米结构工程。我们的系统为纳米尺寸特征的蚀刻、纳米层沉积和纳米结构的受控生长提供工艺解决方案。
这些解决方案基于等离子体增强沉积和蚀刻、离子束沉积和蚀刻、原子层沉积、深硅蚀刻和物理气相沉积的核心技术。产品范围从用于研发的紧凑独立系统，到批处理工具，以及用于高吞吐量生产处理的盒式到盒式集群平台。