XEI Scientific Inc.,厂家的EVACTRON®De-Contaminator™等离子体清洗系统对电子显微镜和其他真空室,被授予美国专利8月13日,2013年,一种改进的方法和仪器对氧自由基的生产中使用清洁的高真空电子显微镜等仪器。
XEI很高兴地宣布，该公司已被授予新的美国专利号＃US8507879B2，它描述了一种新的氧化清洁方法和用于电子显微镜和其他高真空仪器的系统，在氧自由基源中使用紫外线激发。
新方法和设备包括一个真空紫外线光源，它被安置在一个辐照室中，在那里它的光离解氧气用于下游清洁室或样品在没有紫外线光。谢国忠的创始人和专利持有者罗纳德·瓦内(Ronald Vane)说，这项新专利是谢国忠一直在研究改进电子显微镜和其他高真空仪器的清洁方法的结果。这项专利研究提供了一个可选的路径，补充我们的工作，以改进XEI的疏散®RF等离子体清洁系统。
公司在全球销售了超过1800套真空系统，使用电子显微镜、光纤联用仪和其他真空样品室等仪器解决了许多不同环境中的污染问题。详情请浏览我们的网站，www.evactron.com．
关于谢科技股份有限公司
XEI科学公司。1999年发明了Evactron De-Constaminer，作为第一种使用下游清洁方法的等离子体清洁剂，以从电子显微镜中去除碳。专有的等离子体源使用空气来生产用于氧化碳化合物的氧自由基，以通过泵去除。无碳真空产生最高质量的图像和来自SEM和其他真空分析仪器的分析结果。XEI创新包括独特的RF等离子发生器，专利的RF电极，轻松开始编程等离子体清洁。所有XEI产品都配有5年的保修，并符合CE，NRTL和SEMI-S2安全标准。XEI提供各种Evactron®净化系统，以满足用户需求和世界各地的1800个安装。
有关XEI Scientific, Inc.提供的产品和服务的更多信息，请参见www.evactron.com