SENTECH仪器是一家领先的蚀刻和沉积等离子体工艺技术设备和基于椭偏的薄膜计量仪器的供应商。2020欧洲杯下注官网
SENTECH公司开发了先进的PTSA(平面三螺旋天线)电感耦合等离子体源，为ICP等离子体蚀刻机提供了低损伤、高速率蚀刻的核心等离子体技术，并用于ICPECVD低温沉积系统。直到最近，SENTECH Instruments公司才通过ALD和等离子体增强ALD系统扩展了其ICPECVD处理，从而能够沉积高度共形和致密的薄金属氧化物和金属层。
中国西安嘉通大学购买了一套SENTECH的创新原子层沉积(ALD)系统。ALD系统配备了SENTECH原位激光椭偏振仪，是监测和开发新型ALD工艺的独特工具。用于先进的实时生长过程监测的SENTECH原位激光椭偏仪提供了良好的结果，特别是这两种工具都是由SENTECH仪器制造的。
西安ALD系统集成了原位椭偏仪，用户可以在加工过程中以高时间分辨率测量沉积层的薄膜厚度和折射率。ALD系统被配置为热加工和等离子增强加工，可以在没有人工干扰的情况下纳入食谱。两种工艺都通过沉积氧化铝(Al2O3)得到证实。
西安嘉通大学的联络人是可再生能源纳米材料中心的技术助理季星女士。她将指导今后所有与ALD系统相关的实验和研究活动。经过SENTECH技术服务部门的安装和深入的技术培训和加工介绍，邢女士能够独自完美地操作ALD和椭偏仪。
引用邢夫人:
“我们对SENTECH技术服务的顺利专业工作非常满意，SENTECH已经满足了我们对ALD系统及其椭偏仪的所有期望。
所有工艺的出色表现促使西安大学为他们的新ALD系统订购额外的工艺，SENTECH很高兴提供应用支持，我们期待进一步的合作!”
关于SENTECH仪器
SENTECH仪器GmbH是一家开发、生产和销售先进的薄膜计量仪器(反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪)和等离子过程技术(等离子蚀刻机、等离子沉积系统)。
等离子体工艺技术设备用于半导体和微系统中的高精度刻蚀2020欧洲杯下注官网和层沉积。SENTECH Instruments在全球范围内提供产品和服务。