研究人员西安交通大学，在400℃的低温下证明了石墨烯沉积，这是使用Picoplasma™远程等离子体源系统可以实现的PicoSun Oy，着名的原子层沉积（ALD）系统制造商。
该研究由左广烨教授和西安交通大学魏仁教授领导，不仅在石墨烯广泛的应用范围内拓展，而且是ald的应用。
在半导体工业中使用ALD在石墨烯制造中，这是半导体工业中的公认和广泛使用的技术使得石墨烯能够在现代微型和纳米电子制造工艺中进行突破。
这Picosun，Juhana Kostamo董事总经理表示突破所需的突破，在ALD系统的制造和过程开发方面需要先进，复杂的技术和专业知识。
Picosun在ALD系统设计领域的40年来实现了40岁导致石墨烯制造的推进，为未来ICT，空间，医疗和消费电子应用提供了正品，有形产品。
我们使用Picosun的高级PEAD（等离子体增强ALD）系统来证明原子层沉积是一种可行的新技术，用于高质量石墨烯的生长。更重要的是，这项工作展示了石墨烯集成到可能的微电子器件应用的半导体技术中的可能性。
西安交通大学电子材料研究实验室主任Wei Ren教授欧洲杯足球竞彩
Picosun.提供最先进的ALD薄膜技术，通过提供创新，优质的涂层解决方案来帮助行业推进。目前，PicoSun™ALD系统在全球几个主要行业定期使用。本芬兰公司拥有中国，美国和新加坡的子公司以及全球销售和支持网络。