XEI科学公司。在洛杉矶南部加州大学的Ming Hseih电气工程系中报告了他们用户组的新出版物。
XEIEvactron®SoftClean等离子清洁剂在USC洛杉矶电气工程系中使用。
发表在《先进材料杂志》(Journal of Advanced Materials)上的这篇欧洲杯足球竞彩论文报道了等离子体诱导层解耦在多层MoS2中的直接带隙跃迁，以及他们使用XEI的Soft Clean等离子体清洗系统制备样品。
副教授副教授研究团队斯蒂芬克隆诺位于Ming Hseih，在USC洛杉矶电气工程系。它们主要集中在纳米级的光学光谱和电子传输上。Cronin教授的研究涵盖了广泛的主题，包括碳纳米管，石墨烯和其他新型下尺寸材料的电气和光谱性表征。欧洲杯足球竞彩
如石墨欧洲杯足球竞彩烯和少数过渡金属二甲基甲基（TMDC）的2D材料近年来一直吸引了许多研究兴趣，因为从3D散装的机械剥离被证明。虽然石墨烯具有许多优点，但它不适用于光电子的领域，其中TMDC（例如钼二硫化物（MOS2）具有明显的优点，因此感谢在可见波长范围内的有限带隙。本文描述了氧等离子体处理如何在多层MOS2中产生直接带隙过渡。*
作者（Rohan Dhall等人）选择使用XEIEvactron®软清洁等离子体清洁剂进行该过程。这里，通过在200 mtorr处流动房间空气过度流动的室空气来产生等离子体。样品远离等离子体源放置6-10厘米。电离的氧原子朝向样品室扩散，具有低动力学能量。将样品暴露于O 2血浆约3分钟。
半导体制造中使用的典型等离子体清洁器使用“溅射”机制，即样品被携带显著动能的离子轰击，而远程等离子体清洁器主要依靠电离氧的化学反应来去除表面污染物。
分析技术包括光致发光光谱(PL)、拉曼光谱(Raman)、原子力显微镜(AFM)和电子能量损失光谱(EELS)用于跟踪等离子体处理对具有不同层数的样品的影响。
作者通过一种易于使用、可扩展的氧诱导等离子体过程成功地演示了多层MoS2中间接到直接带隙跃迁的产生。由于直接能隙材料对光的有效吸收，直接能隙半导体表现出明显的发光增强，这对光电器件的应用至关重要。欧洲杯足球竞彩
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* adv。母娘。2015. DOI：10.1002 / ADMA.201405259
关于谢科学股份有限公司
XEI科学公司于1999年发明了真空除污染器，这是第一个使用下游清洗过程从电子显微镜中去除碳的等离子体清洁剂。专有的等离子体源使用空气产生氧自由基氧化碳化合物，由泵去除。无碳真空产生最高质量的图像和分析结果从sem和其他真空分析仪器。XEI的创新还包括独特的射频等离子体发生器，专利射频电极，易于启动程序等离子体清洗。所有的XEI产品都有5年的有限保修，并符合CE, NRTL和Semi-S2安全标准。XEI提供各种各样的vactron®净化系统，以满足用户的需求和>2000安装在世界各地。有关XEI Scientific, Inc.提供的产品和服务的更多信息，请参阅www.evactron.com