2015年中国半导体展期间，中国SENTECH用户社区和嘉宾在SENTECH的代表展位和SENTECH等离子研讨会上会面。
研讨会的重点是将新的SENTECH等离子蚀刻和沉积产品引入中国市场和联网。
新的SIPAR系统将PECVD和ALD结合在一个反应器中，作为用于研发的等离子体产品组合的最新开发。SIPAR系统能够自动沉积由等离子体增强化学气相沉积（PECVD）和原子层沉积（ALD）层组成的多层叠层。
PECVD层具有较高的沉积速率，ALD层具有较高的一致性和均匀性。SIPAR采用SENTECH专有的PTSA电感耦合等离子体源，用于在低温<100°C下的多层膜的低损伤沉积。
SENDURO®MEMS是sentecs解决MEMS和传感器生产中的各种测量任务，从膜，空气间隙，介质，半导体和金属到复杂的层堆叠。senuro®MEMS为MEMS、传感器、OLED和LED应用提供了性价比高的计量解决方案。
SIPAR和SENDURO®MEMS在研讨会上广受欢迎，为半导体中国的成功做出了贡献。有关SIPAR和SENDURO®MEMS的更多信息，请联系我们。