德国德累斯顿的弗劳霍夫光子微系统研究所已安装了一种用于等离子体增强和热ALD的柔性系统牛津仪器等离子体技术在纳米电子技术中心。
(从上至下)FhG IPMS-CNT的FlexAL应用:超薄集成3D电容器，ALD/PEALD前驱体开发。
新工具的使用领域是用于超薄集成3D电容器的金属氧化物的过程的研究和开发，新型和独特的金属ALD流程的开发，以及具有组合筛选概念的平台，包括原位计量和ALD / PEALD PREDESOR DEVENSION服务气体和化学供应公司的标准化测试。此外，Flexal将作为Fraunhofer IPMS的MoEMS试点线作为200mm PEALD工具。
“纳米电子技术中心在原子层沉积（ALD）中具有长期经验，这是一个复杂的过程，即单层建立后的单层”，评论FHG IPMS-CNT的业务部门经理Romy Liske博士，“ALD是选择纳米范围中薄膜的精确厚度和组合物的选择过程。
这对于最小尺寸为几十纳米的半导体器件来说尤其如此，而且观察到对高共形ALD薄膜的需求正在增加。因此，ALD沉积的材料和化合物的开发显著增加。”欧洲杯足球竞彩
经过严格的招标过程，牛津仪器公司选择了FlexAL PEALD系统，因为它具有高端ALD研发工具的能力。FlexAL的设计实现了广泛的工艺范围，可以将等离子和热工艺结合在一个完全自动化的配方中，以及灵活的前驱体柜，可以通过现场计量进行有效的组合前驱体筛选。
“牛津仪器弯曲的经过验证的性能和多功能性与PEALD流程多个室温变体的可用性制成了纳米电子技术中心的”选择性“。牛津仪器等离子技术销售，服务和营销总监David Haynes博士说，我们非常高兴地提供这一着名的研究所。“
关于牛津仪器等离子体技术
牛津仪器等离子体技术提供灵活、可配置的工艺工具和尖端工艺，用于精密、可控和可重复的微纳米结构工程。我们的系统为纳米尺寸特征的蚀刻、纳米层沉积和纳米结构的受控生长提供工艺解决方案。
这些解决方案基于等离子体增强型沉积和蚀刻，离子束沉积和蚀刻，原子层沉积，深硅蚀刻和物理气相沉积的核心技术。产品范围从紧凑的独立系统用于研发，通过批量工具和高通量生产加工的集群磁带到盒式磁带平台。
关于Fraunhofer IPMS-纳米电子技术中心(IPMS- cnt)
Fraunhofer-Gesellschaft拥有23,000名员工，是欧洲最大的应用研究组织。弗劳恩霍夫ipm是67个工厂之一，是“硅萨克森”经济区内应用科学和半导体生产基地之间密切合作的一个例子。欧洲杯线上买球IPMS在其纳米电子技术中心(IPMS- cnt)为微芯片生产商、供应商和研究开发伙伴进行300毫米硅片的应用研究。IPMS-CNT为过程模块的纳米图案、高k器件、互连/铜金属化和亚纳米表征提供服务。由于广泛的专业知识和行业标准，开发和新流程可以在没有风险的情况下快速集成到现有客户流程中，以节省时间和最大限度地降低生产成本。