Picosun Oy作为工业规模原子层沉积(ALD)薄膜镀膜解决方案的领先供应商，现在为客户提供广泛的专为大批量生产设计的新前体源。
目前推出的Picohot™400源系统是Picosun公司备受追捧的生产兼容高温源产品线的最新产品。Picohot™400源系统的ALD阀门可加热至400°C以上，从而有效地输送固体和液体挥发性极低的大剂量化学品，最适合批量处理。
该源特别适用于金属氯化物前体，确保无颗粒处理，例如，氧化铪和许多其他材料高达300毫米的晶圆。欧洲杯足球竞彩源容器的大内部容量保证了长时间、连续的进程正常运行时间，有效地利用了前体，并减少了服务中断的次数。一个独立的、与生产兼容的清洗阀进一步加快了维护程序。
PICOSUN的行业规模的前体递送解决方案进一步互补的是温度，高卷PICOSolution™2000源系统，用于最多两升液体前体化学品。
Picosun董事总经理Juhana Kostamo先生：
“随着工业ALD应用数量的不断增长，越来越需要扩大前体化学品的选择。一些重要生产过程中的前体只以固体或低挥发性液体的形式存在。我们在ALD系统设计方面的领先经验，使我们能够实现第一个真正的生产规模的高温源系统，完全基于ALD方法的要求，并满足半导体行业最严格的质量标准。
“我们很高兴为我们的客户提供这些系统，使他们最先进的新产品实现高产量。”
关于picosun.
Picosun提供最先进的ALD薄膜技术，通过新颖、尖端的涂层解决方案，凭借该领域四十年的持续专长，使工业跨入未来。今天，PICOSUN™ALD系统在世界上许多主要行业的日常生产中使用。Picosun总部位于芬兰，在北美、中国、台湾、新加坡和日本设有子公司，并拥有全球销售和支持网络。