SUSS MicroTec宣布新的口罩对准系列MA/BA Gen4

发现MicroTec为半导体行业和相关市场提供设备和工艺解决方案的领2020欧洲杯下注官网先供应商,今天宣布推出MA/BA Gen4系列。新一代SUSS MicroTec的半自动化掩膜和键合对准器通过在对准精度、人体工程学设计和进一步降低拥有成本方面的重大改进,扩展了其功能。

随着第四代的推出,SUSS MicroTec引入了一个新的平台系统。这两种平台类型配置不同,包括用于标准流程的MA/BA Gen4和MA/BA Gen4系列适用于高级高端工艺。通过转移到这个新的平台概念,SUSS MicroTec进一步优化了Mask对准器产品组合,以更好地符合客户的要求。

SUSS MicroTec的MA/BA Gen4系列主要应用于学术界、MEMS、3D集成和化合物半导体市场的全领域光刻。它还可以处理键对齐、融合键合和SMILE压印等过程。除了标准晶圆加工外,MA/BA Gen4系列还可可靠地加工精细的基片,如易碎、翘曲或表面不平整的晶圆。

我们的新手动面膜校准系列在成本效率、用户友好性和领先的工艺结果方面树立了一个高基准。有了这个新的平台概念,我们进一步配合不同的客户需求——用于标准光刻工艺的MA/BA Gen4或领先的MA/BA Gen4适用于小批量生产和更高要求的解决方案,例如我们的软共形压印光刻(SCIL)解决方案。

Per-Ove Hansson博士,SUSS MicroTec首席执行官

SUSS MicroTec是半导体行业和相关市场的微结构设备和工艺解决方案的领2020欧洲杯下注官网先供应商。SUSS MicroTec与研究机构和行业伙伴密切合作,为下一代技术的进步做出贡献,如3D集成和纳米压印光刻,以及MEMS和LED制造的关键工艺。通过应用程序和服务的全球基础设施,SUSS MicroTec支持全球超过8000个已安装的系统。SUSS MicroTec总部位于德国慕尼黑附近的加兴。欲了解更多信息,请访问www.suss.com

引用

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  • 美国心理学协会

    发现MicroTec AG)。(2019年,08年2月)。SUSS MicroTec宣布新的口罩对准系列MA/BA Gen4。AZoM。于2021年11月1日从//www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=45927检索。

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    发现MicroTec AG)。SUSS MicroTec宣布新的面膜对准系列MA/BA Gen4。AZoM.2021年11月01。< //www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=45927 >。

  • 芝加哥

    发现MicroTec AG)。SUSS MicroTec宣布新的面膜对准系列MA/BA Gen4。AZoM。//www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=45927。(2021年11月1日生效)。

  • 哈佛大学

    发现MicroTec AG)。2019.SUSS MicroTec宣布新的口罩对准系列MA/BA Gen4.viewed september 21, //www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=45927。

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