Picosun和赫尔辛基大学为ALD提供了新思路

PicoSun Oy作为先进原子层沉积(ALD)薄膜技术的领先供应商,为光电辅助ALD的商业应用提供设备和解决方案。2020欧洲杯下注官网Photo - ALD可以实现新型ALD工艺,区域选择性薄膜沉积,较低的沉积温度,节省前驱体化学消耗和成本,并降低ALD处理对环境的影响。

照片辅助ALD利用光来实现ALD薄膜生长。虽然在常规的ALD薄膜中,从两个气体前体增长,其在涂覆的表面上逐一反应,在光 - ALD中只需要一种化学品 - 光线照顾其余的。

“这款光学ALD方法已经过分调查,主要是因为缺乏适当的设备。2020欧洲杯下注官网现在,使用PicoSun的照片 - ALD工具,我们能够为几个关键ALD流程开发这种技术和相关化学。潜在的应用可以在MEMS(微机电系统),传感器和其他先进的微电子中找到(例如,选择性ALD,以保持芯片接触区域清洁),以及太阳能电池制造,“芬兰赫尔辛基大学Mikko Ritali教授。。

Picosun的野心是在以前从未消失的ALD,为客户提供小说,破坏性的工业解决方案和尖端的新产品。我们非常高兴,为我们的照片ALD系统启用了我们的长期协作合作伙伴,赫尔辛基大学的最佳结果。向我们的工业合作伙伴介绍这项技术是令人着迷的,以帮助他们找到解决他们制造挑战的新方法。

Picosun董事总经理Juhana Kostamo。

引用

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  • 美国心理学协会

    Picosun组。(2019年,08年2月)。Picosun和赫尔辛基大学为ALD提供了新思路。AZoM。2021年6月19日从//www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=45929获取。

  • MLA.

    Picosun组。“PicoSun和赫尔辛基大学在ALD上的新灯”。氮杂。2021年6月19日。

  • 芝加哥

    Picosun组。“PicoSun和赫尔辛基大学在ALD上的新灯”。AZoM。//www.wireless-io.com/news.aspx?newsid=45929。(访问2021年6月19日)。

  • 哈佛大学

    Picosun组。2019年。Picosun和赫尔辛基大学为ALD提供了新思路。Azom,浏览2021年6月19日,//www.wireless-io.com/news.aspx?newsid=45929。

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