反射光学对于在晶圆上高速印刷芯片图案至关重要。
Rigaku创新科技(RIT)近日，全球高性能多层光学器件供应商，宣布推出一系列精密极紫外光刻(EUVL)光学涂料，用于制造用于半导体行业晶圆图案印刷的反射镜。
RIT的反射光学是扫描工具内的光学链的关键元件，该扫描工具可将芯片图案以高达每小时125片的速度打印到晶片上。
RIT涂层用于下一代光刻技术，这将使半导体行业继续缩小打印晶体管的尺寸。这大大增加了可以打印在芯片上的晶体管数量，从而增加了设备的功能。
此外，芯片消耗更少的电力，这是延长设备电池寿命的关键因素。新芯片将被用于继续发展智能手机技术、GPS设备、家庭娱乐和许多其他无线应用。
RIT拥有超过30年的设计和制造世界一流反射光学的经验，是行业内唯一的独立批量制造商。它是最早投资研究和开发专门为EUVL设备设计的多层涂层的公司之一。
这种深厚的经验基础使Rigaku能够满足半导体行业苛刻的精度要求。
在其现有独特的“内联”多层涂层沉积系统的基础上，RIT最近开发并安装了第二套内联高通量沉积系统。新的沉积系统由两个独立的内联系统组成，可以同时沉积4个直径高达800毫米的大型光学元件。
它还可以用于在同步加速器和其他应用的基片上实现高达1.5米长的高精度涂层，具有复杂的二维d-间距分布模式。新系统还具有非常低的不良率。
作为x射线/EUV多层涂层的领导者，Rigaku光学在整个产品系列中具有更好的性能和更好的性能一致性。此外，Rigaku还开发了一种工艺，将光学系统翻新到接近原始性能水平。
翻新过程增加了光学寿命，并抵消了污染和辐射损伤的影响，这对降低生产成本至关重要。
欲了解更多有关此工艺和产品的信息，请访问www.rigakuoptics.com。