牛津仪器等离子技术公司于2017年3月7日在布鲁塞尔举行的年度CS行业奖上获得了大批量制造奖。
该奖项突出了该公司通过自己的PlasmaPro100 Polaris系统开发的SiC等离子体蚀刻工艺。
我们很高兴能获得这个奖项,因为它认可了Plasma Technology的员工所进行的一些伟大创新。所开发的SiC通孔蚀刻工艺是生产下一代射频器件的重要步骤,它具有光滑的蚀刻侧壁和较低的拥有成本,具有优异的器件性能。
弗雷泽·安德森,牛津仪器等离子技术公司战略营销和业务发展总监。
今年是该奖项颁发的第五个年头,该奖项表彰了复合半导体行业从研究到成品设备的整个价值链上的成功和发展,重点关注推动行业前进的人、流程和产品。这些奖项在超过100名业界人士出席的CS国际会议上颁发。
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