除了旗舰产品DualBeam之外，等离子体FIB技术可以显著提高铣削速度，实现传统FIB技术无法实现的更大特性分析
旗舰FEI Helios G4双光束系列现在可以用等离子体聚焦离子束(PFIB)技术进行先进材料的研究。欧洲杯足球竞彩PFIB的快速铣削能力使分析一组相关特征成为可能，这些特征对于传统镓(Ga+心房纤颤。对金属、电池和增材制造等领域的材料科学家来说，对更大范围的兴趣区域进行分析非常重要。欧洲杯足球竞彩
我们在20多年前就开创了DualBeam。今天，我们很高兴继续我们在DualBeam技术的领导地位，推出了新的Helios G4 PFIB，提供高通量FIB处理;高分辨率、大面积二维、三维成像;高质量TEM样品制备。PFIB，控制电子，舞台灵活性和控制，以及材料科学应用专业知识的独特组合，提供了我们的客户需要推进他们的研究的性能和支持。欧洲杯足球竞彩欧洲杯线上买球
Trisha Rice，赛默飞世尔材料科学公司副总裁兼总经理。欧洲杯足球竞彩欧洲杯线上买球
多尺度成像和分析帮助研究人员将纳米尺度的信息与材料的宏观尺度效应联系起来。欧洲杯足球竞彩传统的Ga+ FIB系统已用于制备透射电子显微镜(TEM)样品，并进行截面和三维分析，但其可以分析的特征尺寸受其铣削速度的限制。等离子体基DualBeam系统去除材料的速度明显快于Ga+FIB，增加了分析吞吐量，并能够分析相关的特征量，这些特征太大而无法用Ga进行分割+FIB在一个实际的时间框架内。新的Helios G4 PFIB也是为了避免与Ga植入相关的问题而设计的+离子在某些应用。
新的Helios G4 PFIB的关键技术包括:
- 新的PFIB 2.0离子柱提供了高束流和优秀的束流轮廓超过全电流范围，提供了质量和吞吐量的组合，
- 行业领先的Elstar电子柱与UC+单色仪用于高分辨率成像，
- 一种先进而广泛的气体化学，
- 易于使用的自动切片和查看和AutoTEM 4.0软件，
- 快速和容易指导TEM样品制备新手用户，和
- 系统运行参数的自对准和优化。
Helios G4 PFIB有两种型号:CXe提供灵活的110毫米直流级和ux提供高性能的150毫米压电级。