布鲁克纳米表面部门
Bruker的纳米表面部门今天宣布引入TriboLab CMP工艺和材料表征系统，该系统为经验证的稳健UMT TriboLab化学机械抛光（CMP）工艺的开发提供了独特的表征能力™ 机械测试平台。新的TriboLab CMP系统是市场上唯一能够提供广泛抛光压力（0.05-50 psi）、速度（1至500 rpm）、摩擦、声发射和表面温度测量的工具，用于准确完整地描述CMP工艺和耗材。
“CMP对于先进半导体器件的制造比以往任何时候都更加关键。行业一直在寻求一种方法来有效地描述抛光各种材料时发生的详细过程和消耗品交互作用，”Entrepix的首席技术官Robert Rhoades博士说，该公司是CMP行业设备和晶圆加工服务的领先供应商。2020欧洲杯下注官网欧洲杯足球竞彩“我们很高兴与Bruker合作，并协助TriboLab CMP平台的启动。随着新系统的加入，我们将提供一个可靠的研发解决方案，以测试和表征垫、浆体、调节和工艺参数之间的复杂相互作用，具有无与伦比的重复性和细节。”
Bruker为此应用提供了十多年的仪器，我们很高兴将TriboLab CMP作为该系列的最新一代产品推出。TriboLab CMP已经在半导体行业一些最具挑战性的CMP应用开发的客户现场展示了卓越的能力。它是市场上唯一能够提供广泛抛光压力和速度范围、声发射数据、摩擦和表面温度的工具，用于准确完整地描述CMP工艺和耗材。
James Earle, Bruker副总裁兼总经理，摩擦学，笔和光学计量业务