ALD的发明者、Picosun董事会成员Tuomo Suntola博士获得了2018年千禧科技奖。该奖项于5月22日星期二在赫尔辛基宣布并颁发。
Tuomo Suntola的创新导致ALD方法的大规模商业应用。他看到了原子层沉积和薄膜技术在微电子和信息技术方面的巨大潜力，”千年技术奖评选委员会主席Päivi Törmä说。
”博士。托莫·桑托拉的工作造福了全人类。今天的高效日常电子产品都是基于ALD的。Picosun董事长兼首席执行官Kustaa Poutiainen先生说:“随着ALD的发展，医疗技术正在取得巨大的飞跃，在不久的将来，我们将看到行业的许多其他分支也将发生同样的事情。”
桑托拉早在1974年就发明了原子层沉积(ALD)。有了它，厚度只有百万分之一毫米的超薄薄膜可以在各种表面生长，甚至在三维表面上。当气态前体化学物质与ALD薄膜表面发生反应时，ALD薄膜一次只生长一个原子层。他走在了时代的前面，因为半导体行业用了30多年才开始大规模使用ALD。ALD迅速改变了整个行业。有了它，晶体管和存储器的尺寸不断缩小，而效率却不断提高。
ALD正在推动世界各地的发展。在不久的将来，健康技术和物联网是一些关键的应用领域，物联网拥有数十亿个配备ALD薄膜的高科技传感器。ALD能使led更亮、更持久，ALD薄膜甚至可以在手表、珠宝和收集硬币中找到。
Tuomo Suntola在Picosun成立几年后加入了该公司，最初是作为技术顾问，但很快也成为了Picosun的所有者之一和董事会成员。该公司拥有许多经验和沉默的知识带来了他和他的亲密同事，已故的斯文林德福斯。
“Picosun的所有人都祝贺Tuomo。我相信整个ALD社区都会加入我们。托莫是一位令人难以置信的创新者，他绝对配得上这个奖。在Picosun, Tuomo作为一家敏捷和创新驱动的公司，保持ALD发展的领先地位是我们的责任。”