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Picosun-SINANO合作生产优良的TiN工艺

全球领先的ALD(原子层沉积)薄膜镀膜解决方案提供商Picosun集团和苏州纳米技术与纳米仿生研究所(SINANO)报告称,Picosun的等离子体-ALD技术沉积了高质量的氮化钛(TiN)。

在微电子成分制造中,金属和半导体材料层之间的欧姆接触对于部件官能度和寿命至关重要。通常,诸如钛的纯金属已用作金属材料,但它们具有某些缺点,这就是为什么已经提出氮化钛作为替代品的原因。锡是金属也是金属,其电导率和热稳定性优于纯钛金属,而是获得高质量的锡膜,制造方法和条件至关重要。

这就是Picosun的远程等离子ALD (RPEALD)技术显示其实力的地方。在Picosun的方法中,等离子体源位于离基板足够远的地方,这样就不会有侵略性的离子轰击,而是在基板表面发生高活性自由基的反应。这使得低工艺温度不会对衬底造成热应力或物理离子损伤,也使导电材料的沉积没有短路或气体反扩散到等离子体源的风险。欧洲杯足球竞彩正确选择前驱体化学品和等离子体气体,保证了具有极低氧含量和功功能、低薄片电阻率、精确化学计量和高均匀性的高纯TiN薄膜(*)。此外,工艺窗口对于工艺参数和温度是广泛的,使工艺可以被引入到多种基材上。欧洲杯足球竞彩

“我们很乐意向我们的客户在微观和光电行业提供这些优秀的锡效果。锡是其应用中的中央材料,尤其是在GaN上制造的部件和小,直径为200毫米的Si晶片。PICOSUN专门用于提供高达200毫米晶圆市场的成本效益,转向关键的生产解决方案。我们希望您欢迎您在2018年10月14日至17日在深圳市14-17举行的第四届中国ALD会议中与我们联系,我们再次成为铂金赞助商,进一步讨论我们的ALD技术如何改善您的产品在PicoSun Asia Pte首席执行官Edwin Wu先生表示,在您的行业中实现新的突破。PicoSun China有限公司

“与PicoSun一起工作总是很高兴。他们的ALD设备的质量突出,使我们能够开发尖端的A2020欧洲杯下注官网LD流程,以便在行业中引入我们的其他合作伙伴。使用PicoSun™ALD工具的一个非常重要的好处也是生产规模的流程的平滑可扩展性,作为所有Picosun™ALD系统,从研发单位到全尺寸的工业生产平台,共享相同的核心设计和运营原则,“仍在继续Sunan Ding教授来自Sinano的Nano-X实验室。

自2017年初以来,Sinano和Picosun一直在合作。该协作的目标是开发先进的微型和光电子组件,如HEMTS(高电子迁移率)和激光二极管,以及在其联合实验室中使用ALD的锂离子电池in Suzhou, one of China’s most prominent hubs for electronics and other high-tech products manufacturing. The lab is equipped with several state-of-the-art PICOSUN™ALD systems. The collaboration is further supported by Picosun’s local subsidiary, Picosun China Co. Ltd. also located in Suzhou.

引用

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  • 美国心理学协会

    Picosun组。(2018年9月27日)。Picosun-SINANO合作生产优良的TiN工艺。AZoM。2021年6月29日从//www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=49723获取。

  • MLA.

    Picosun组。“picoson - sinano的合作产生了优秀的TiN工艺”。AZoM.2021年6月29日。

  • 芝加哥

    Picosun组。“picoson - sinano的合作产生了优秀的TiN工艺”。AZoM。//www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=49723。(访问2021年6月29日)。

  • 哈佛大学

    Picosun组。2018年。Picosun-SINANO合作生产优良的TiN工艺.AZoM, 2021年6月29日观看,//www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=49723。

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