2018年10月24日
今天,世界领先的研究和创新中心在imec纳电子学和数码技术,和ASML Holding喷嘴速度(ASML)光刻设备、技术和市场的领袖宣布下一步的广泛合作。2020欧洲杯下注官网在一起,他们将加速EUV光刻技术的采用大批量生产,包括当前最新设备EUV(0.33数值孔径,NA)。2020欧洲杯下注官网此外,他们将探索下一代high-NA EUV光刻技术的潜力,使印刷更小的纳米设备推进半导体扩展向《华盛顿邮报》3纳米逻辑节点。为此,他们将建立一个联合high-NA EUV研究实验室。
Imec和ASML开展联合研究近三十年。2014年,他们创建了一个联合研究中心,中心的先进模式,优化光刻技术先进CMOS集成和准备的生态系统以支持推进模式的需求。现在,他们把这个合作的下一个阶段的安装ASML最先进和大批量生产专用EUV扫描仪(NXE: 3400 b)在imec的洁净室。利用imec的基础设施和先进的技术平台,imec和ASML研究人员和合作伙伴公司可以预先分析和解决技术难题等缺陷,可靠性和收益率,因此加快EUV技术的产业化。
250 w光源,ASML最新的EUV系统吞吐量将超过每小时125晶片,行业最重要的一个要求,大批量生产。NXE: 3400 b也将配备最新的对齐和水平传感器,使优化过程控制在这个高吞吐量。这将促进覆盖匹配NXE: 3400 b的最新浸没式扫描仪,NXT: 2000我,也将在2019年被安装在imec的洁净室。此外,ASML和imec将扩大计量能力与新ASML YieldStar光学计量和束ASML-HMI多电子计量设备,允许更准确和更快的纳米结构的评价。2020欧洲杯下注官网
继续在光刻技术发展的前沿,提高合作的第二个组件是一个high-NA EUV联合研究实验室的基础。在这个实验中,研究人员从这两个组织都将与下一代的EUV光刻实验NA更高。系统更高的NA项目EUV光源到晶片在大角度,提高分辨率,使打印的小功能。更具体地说,新的high-NA EUV系统,EXE: 5000年,将安装在联合研究实验室,会有0.55而不是0.33的NA目前NXE: 3400 EUV系统。现在,第一个关节的科学项目,以促进high-NA EUV的引入,正在进行。在联合研究实验室,ASML imec将执行研究制造的最先进的纳米设备high-NA EUV和辅助设备和材料的生态系统供应商准备引入high-NA EUV技术行业。2020欧洲杯下注官网
吕克·范举起,imec的总裁兼首席执行官:“新EUV扫描仪和ASML计量设备将允许我们的行业合作伙伴进行合作研究最先进的和行业相关的光刻技术和计量设备。2020欧洲杯下注官网光刻时,ASML无疑是世界的领导者。ASML imec有近30年的悠久传统联合研究,导致突破模式研究推进半导体行业路线图。”
Martin van den边缘,总裁和首席技术官ASML:“我们很高兴借此下一步在我们长且深与imec合作。接触到最先进的半导体光刻工具是至关重要的探索和确定未来一代又一代的半导体设备和应用程序的路径。Imec的研究人员和客户可以确定最新的整体光刻技术多年来。半导体行业和世界各地的消费者和企业将受益于imec的成果的工作在接下来的十年,导致持续改进芯片成本和性能。”
来源:https://www.asml.com/asml/en/s427