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爱德华兹推出新型iXH Mk2干泵,用于超苛刻的半导体工艺

爱德华兹利用100年的技术创新,为苛刻的工艺能力、可靠性和较低的拥有成本制定了新的标准。

伯吉斯希尔,西萨塞克斯,英国(2019年3月14日)-爱德华兹宣布新的IXH MK2系列-一种高效率,低功耗,超苛刻的干式泵,满足今天的半导体工艺要求,并解决明天新出现的应用程序挑战在半导体、显示器、LED和太阳能光伏制造过程中。爱德华兹将于3月20日至22日在上海SNIEC举行的Semico®China(中国FPD 1309展位)上展示新的iXH Mk2解决方案。

爱德华兹高级产品经理Al Brightman说:“新的iXH Mk2干式泵在最苛刻的工艺条件下比前几代产品的使用寿命更长。它还可以显著提高功率效率。”。“利用100年的技术创新,我们为苛刻的工艺能力、可靠性和低拥有成本“重新设置了标准”。iXH降低了半导体制造中某些最苛刻工艺对环境的影响。”

参观展台,了解iXH Mk2如何解决高k、低k、SACVD、LPCVD、ALD、TCO、GaN和EPI等新兴工艺挑战。有关爱德华兹的更多信息,请访问www.edwardsvacuum.com.

引证

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    爱德华兹真空有限公司(2019年3月15日)。爱德华兹推出用于超苛刻半导体工艺的新型iXH Mk2干泵。亚速姆。于2021年9月25日从//www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=50693.

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    爱德华兹真空有限公司“爱德华兹推出新的iXH Mk2干泵,用于超苛刻的半导体工艺”。亚速姆. 2021年9月25日.

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    爱德华兹真空有限公司“爱德华兹推出新的iXH Mk2干泵,用于超苛刻的半导体工艺”。亚速姆。//www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=50693. (查阅日期:2021年9月25日)。

  • 哈佛

    爱德华兹真空有限公司,2019年。爱德华兹推出新型iXH Mk2干泵,用于超苛刻的半导体工艺. 亚速姆,2021年9月25日查看,//www.wireless-io.com/news.aspx?newsID=50693.

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